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Vacuum Deposition System from Moorfield Nanotechnology, UK

Physical Vapour Deposition (PVD) , Chemical Vapour Deposition (CVD)

Evaporation, Soft-etching, Annealing (Thermal Processing), Electron microscopy coating

진공증착시스템 (Vacuum Deposition System)

nanoEM


 
 

 

nanoEM 시스템은 재료 연구개발 시 사용될 수 있는 최초의 full set 전자 현미경 코팅 툴입니다.

The nanoEM system is the first electron microscopy coating tool with a full, research-grade feature set.

금속/세라믹/반도체 등 벌크 재료의 SEM / TEM 분석용 시편제작​에 쓰이는 장비로써, 시료 표면에 형성된 유기막을 제거하여 이물 및 불량분석을 보다 손쉽게 처리하는 용도로 사용됩니다. 본 장비는 이온 밀링 공법을 활용하여 미세 표면 구조를 분석하기 위한 표면 밀링용으로 사용할 수 있습니다. Inert gas인 Argon 이온을 진공상태의 기판 표면으로 가속시켜 물질을 식각하는 장비입니다.  

즉, 물리적인 손상이 없이 정확한 단면 상태를 관찰할 수 있도록 깨끗하고 손상 없는 시료 단면 이미지가 필요한 때 이온 빔 밀링이 사용됩니다. 

 

Techniques:

High-performance coating for electron microscopy

 

본 장비에는 스테인리스강 챔버, 터보 펌핑 시스템(turbomolecular pumping system), 연속적인 구동을 위한 수냉식 원형 마그네트론, 기본으로 제공되는 정밀 스퍼터링 파워서플라이(DC, 최대 300W)가 벤치탑 패키지에 모두 포함됩니다. 사용성이 편리하고 코팅 속도는 TEM/SEM 샘플의 일상적인 준비(예: 금 및/또는 탄소 스퍼터링)를 위해 내장되어 있지만 고급 구컴포넌트와 기존 타겟과의 호환성으로 가능성이 무한한 장비입니다.

 

Key features

  • Research-grade electron microscopy coating
  • Compact, benchtop unit
  • SEM stub/TEM grid/wafer supports
  • Up to 2 × 2” magnetron sputtering sources
  • Industry- standard sputtering targets
  • Turbomolecular pumping to <5 × 10–7 mbar
  • MFC- controlled process gas
  • Variable output DC power supply, up to 300 W
  • Fully automatic, recipe operation via touchscreen HMI
  • Equipped for easy servicing
  • Comprehensive safety features
  • Cleanroom compatible
  • Proven performance

 

Options

  • Chamber viewports
  • Backing pump only
  • Dry pumping
  • Automatic pressure control
  • Shutter
  • Plasma glow electrode
  • Stage rotation and tilt
  • Quartz crystal sensor head process monitoring

 

Typical configurations

The nanoEM is a standardised system.

 

 

 

 

 

 

 

High-performance coating for electron microscopy

"The units include stainless-steel chambers, turbomolecular pumping systems, water-cooled circular magnetrons for continuous operation, and a precision sputtering power supply (DC, up to 300 W) as standard, all in a space-saving benchtop package. Ease-of-use and coating speed are built in for routine preparation of TEM/SEM samples (e.g., with sputtering of gold and/or carbon), but with high-end components and compatibility with conventional targets, the possibilities are endless."

 

Service requirements

All nanoEM systems require chilled water, dry compressed air, nitrogen for venting (optional), process gas (Ar), and electrical power. Exact requirements will be provided with quotations or on request.

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