메뉴 건너뛰기
모바일 메뉴버튼
Home
Products
Multi-axis Micro Texture Analyzer
ㄴ 고성능 미세점착력 측정기
ㄴ 다축 미세재료 물성분석기
ㄴ 고성능 마찰계수측정기
유전율측정기 (DEA, Dielectric Cure Monitor)
정성정량분석기기 (OES- RGA, HPLC+GC-MS, IC, FTIR)
ㄴ OES 잔류가스분석기
ㄴ 크로마토그래피
열물성분석기 (열전도도, 회융점, Tm, Hot/cold stage)
ㄴ Hot / Cold Microscopic Stage
ㄴ 미소수화열측정기
ㄴ Oxygen Bomb Calorimeter
진공증착장비 (Vacuum Deposition System)
ㄴ Thin Film Deposition System
ㄴ ALD Atomic Layer Deposition System
ㄴ Combined ALD and PVD System
ㄴ TSST PLD System, Pulsed Laser Deposition
ㄴ MBE System, Dr. Eberl MBE-Komponenten
ㄴ Magnetron Sputtering System
ㄴ Evaporation System (Evaporator)
ㄴ PVD, CVD, Evaporation, Etching System
만능재료시험기 (UTM) 및 물성분석기 (TXA)
ㄴ 물성분석기 (Texture Analyzer)
ㄴ Material Test Machines, Testresources, USA
UV 광경화 시스템 개요
전자기 물성분석기 (Electromagnetic analyzers)
유변물성분석기 (점도계, 인라인점도계, 레오미터)
열량계 (Isothermal, Reaction, Adiabatic Calorimeter)
열분석기 (DEA, Wafer chuk, Auto TGA)
General Instruments
ㄴ 연소 및 폭주특성 시험기 (Fire Testing Equipment)
ㄴ Spectrophotometers
ㄴ 온라인 측정분석기 (Online Analyzers)
ㄴ Titration
ㄴ pH Meter
ㄴ 원소분석기 (XRF, AAS, Spark-OES, AES-OES)
액세서리 및 소모품
Solutions
소재 및 산업별 장비 솔루션
기기별 어플리케이션
물성별 솔루션 및 측정장비
기기 분석 시험법에 따른 측정분석기기
공정 장비 Process System
ㄴ 펨토초 미세가공시스템 (Micro-machining System)
ㄴ 플라즈마 표면처리기
ㄴ UV 광경화 시스템 (UV Curing Systems)
ㄴ Vacuum Soft-Etching
ㄴ 웨이퍼 척 (Wafer Chuck)
ㄴ Thermal Plate (인스텍 핫/콜드 플레이트)
ㄴ Vacuum Thermal Processing
ㄴ Electrical Thermal Probe Systems
ㄴ Fluid Aeration
ㄴ 인라인 분석기
Service
측정분석기술 컨설팅
진공 박막증착 (코팅) 서비스
액세서리 및 소모품
ㄴ UTM Test Fixtures
ㄴ TGA & DSC 열분석 샘플팬
ㄴ 나노입자 생성 및 증착 소스
ㄴ 스퍼터 소스
ㄴ 진공 박막증착 타겟
Application
ㄴ 박막증착 및 코팅
ㄴ UTM 만능재료시험기
ㄴ 잔류응력측정기 (XRD)
Software
Customer Center
Product List
제품 및 서비스 문의
동영상 자료
분석기기론
Blog
회사소개
Introduction
연혁 (Our history)
인증 및 특허
조직도 (Organization)
Global Partners
채용정보 (Careers)
연락처 및 위치
통합 검색
로그인
회원가입
로그인
회원가입
Home
Products
Multi-axis Micro Texture Analyzer
ㄴ 고성능 미세점착력 측정기
ㄴ 다축 미세재료 물성분석기
ㄴ 고성능 마찰계수측정기
유전율측정기 (DEA, Dielectric Cure Monitor)
정성정량분석기기 (OES- RGA, HPLC+GC-MS, IC, FTIR)
ㄴ OES 잔류가스분석기
ㄴ 크로마토그래피
열물성분석기 (열전도도, 회융점, Tm, Hot/cold stage)
ㄴ Hot / Cold Microscopic Stage
ㄴ 미소수화열측정기
ㄴ Oxygen Bomb Calorimeter
진공증착장비 (Vacuum Deposition System)
ㄴ Thin Film Deposition System
ㄴ ALD Atomic Layer Deposition System
ㄴ Combined ALD and PVD System
ㄴ TSST PLD System, Pulsed Laser Deposition
ㄴ MBE System, Dr. Eberl MBE-Komponenten
ㄴ Magnetron Sputtering System
ㄴ Evaporation System (Evaporator)
ㄴ PVD, CVD, Evaporation, Etching System
만능재료시험기 (UTM) 및 물성분석기 (TXA)
ㄴ 물성분석기 (Texture Analyzer)
ㄴ Material Test Machines, Testresources, USA
UV 광경화 시스템 개요
전자기 물성분석기 (Electromagnetic analyzers)
유변물성분석기 (점도계, 인라인점도계, 레오미터)
열량계 (Isothermal, Reaction, Adiabatic Calorimeter)
열분석기 (DEA, Wafer chuk, Auto TGA)
General Instruments
ㄴ 연소 및 폭주특성 시험기 (Fire Testing Equipment)
ㄴ Spectrophotometers
ㄴ 온라인 측정분석기 (Online Analyzers)
ㄴ Titration
ㄴ pH Meter
ㄴ 원소분석기 (XRF, AAS, Spark-OES, AES-OES)
액세서리 및 소모품
Solutions
소재 및 산업별 장비 솔루션
기기별 어플리케이션
물성별 솔루션 및 측정장비
기기 분석 시험법에 따른 측정분석기기
공정 장비 Process System
ㄴ 펨토초 미세가공시스템 (Micro-machining System)
ㄴ 플라즈마 표면처리기
ㄴ UV 광경화 시스템 (UV Curing Systems)
ㄴ Vacuum Soft-Etching
ㄴ 웨이퍼 척 (Wafer Chuck)
ㄴ Thermal Plate (인스텍 핫/콜드 플레이트)
ㄴ Vacuum Thermal Processing
ㄴ Electrical Thermal Probe Systems
ㄴ Fluid Aeration
ㄴ 인라인 분석기
Service
측정분석기술 컨설팅
진공 박막증착 (코팅) 서비스
액세서리 및 소모품
ㄴ UTM Test Fixtures
ㄴ TGA & DSC 열분석 샘플팬
ㄴ 나노입자 생성 및 증착 소스
ㄴ 스퍼터 소스
ㄴ 진공 박막증착 타겟
Application
ㄴ 박막증착 및 코팅
ㄴ UTM 만능재료시험기
ㄴ 잔류응력측정기 (XRD)
Software
Customer Center
Product List
제품 및 서비스 문의
동영상 자료
분석기기론
Blog
회사소개
Introduction
연혁 (Our history)
인증 및 특허
조직도 (Organization)
Global Partners
채용정보 (Careers)
연락처 및 위치
GNB 메뉴 닫기
Search
Our Products and Solutions
Home
>
Search Products and Solutions
통합 검색
제목+내용
제목
내용
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Aluminum Nickel Sputtering Target, Al/Ni
Aluminum Nickel Sputtering Target Description Aluminum, also called aluminum, is a chemical element
댓글 0
0
127
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Aluminum Silicon Copper Sputtering Target, Al/Si/Cu
Aluminum Silicon Copper Sputtering Target Description Aluminium, also called aluminum, is a chemica
댓글 0
0
113
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Aluminum Silicon Sputtering Target, Al/Si
Aluminum Silicon Sputtering Target Description Aluminium, also called aluminum, is a chemical eleme
댓글 0
0
131
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Aluminum Titanium (Al/Ti) Sputtering Target
Aluminum Titanium Sputtering Target Description Aluminium, also called aluminum, is a chemical elem
댓글 0
0
102
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Chromium Cobalt Sputtering Target, Cr/Co
Chromium Cobalt Sputtering Target Description Chromium is a chemical element that originated from t
댓글 0
0
117
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Chromium Copper Sputtering Target, Cr/Cu
Chromium Copper Sputtering Target Description Chromium is a chemical element that originated from t
댓글 0
0
100
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Chromium Molybdenum Sputtering Target, Cr/Mo
Chromium Molybdenum Sputtering Target Description Chromium is a chemical element that originated fr
댓글 0
0
114
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Chromium Titanium (Cr/Ti) Sputtering Target
Chromium Titanium Sputtering Target Description Chromium is a chemical element that originated from
댓글 0
0
115
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Chromium Vanadium Sputtering Target, Cr/V
Chromium Vanadium Sputtering Target Description Chromium is a chemical element that originated from
댓글 0
0
94
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Cobalt Aluminum Sputtering Target, Co/Al
Cobalt Aluminum Sputtering Target Description Cobalt aluminum sputtering target from Stanford Advan
댓글 0
0
106
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Cobalt Iron Sputtering Target, Co/Fe
Cobalt Iron Sputtering Target Description Cobalt is a chemical element that originated from the Ger
댓글 0
0
91
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Cobalt Nickel Sputtering Target, Co/Ni
Cobalt Nickel Sputtering Target Description Cobalt is a chemical element originated from the German
댓글 0
0
114
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-11-14
수정 2025-11-14
1
2
3
4
5
6
7
8
...
137
138
2
/
138
문의
하기
맨 위로