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Chemical vapour deposition system from Moorfield Nanotechnology

그래핀(Graphene)과 탄소나노튜브(Carbon nanotube, CNT)의 독특한 전기, 기계적, 구조적 특성을 감안하면, 이 제품의 도입은 광범위한 응용 분야에서 매우 실용적인 결과를 낳을 것입니다. 또한 이러한 재료의 특성은 새로운 형태의 디바이스와 상품의 출현을 가능하게 할 것임을 의미합니다.
Moorfield의 nanoCVD 제품군은 스케일 업이 가능한 Chemical Vapour Deposition (CVD) 기술을 사용하여 그래핀과 탄소 나노튜브를 빠르고 저렴하며, 효율적으로 생산할 수 있도록 한 장비입니다.

 

Moorfield systems for Chemical vapour deposition

 

Overview

그래핀과 탄소나노튜브(CNT)는 독특한 전기, 기계적 및 구조적 특성을 감안하여 엄청난 연구 성과를 불러왔습니다. 이러한 특성 덕분에 이 재료와 제품의 도입은 광범위한 응용 분야에 혁신을 가져와 특이한 재료 특성으로 인한 새로운 종류의 디바이스와 제품이 도래할 것임을 예상합니다.

Moorfield의 nanoCVD 제품군은 신속하고 고품질의 그래핀 또는 CNT 생산을 제공하는 컴팩트한 벤치탑 툴로써, 신뢰성있는 주문형 소스가 필요한 탄소 나노물질 응용 분야에 중점을 둔 연구에 이상적입니다. 시스템은 튜브퍼니스(tube furnace, hot wall) 대비 주요 이점이 있는 cold-wall을 기반으로 합니다.

  • 합성 온도로 급속 가열과 냉각
  • 향상된 조건 제어, 공정 재현성
  • 오염이 적은 구동
  • 리소스 사용량 감소 및 운영 비용 절감
  • 간편한 위치에 구축되는 컴팩트한 툴

모든 nanoCVD 시스템은 연결이 쉽고 설치가 빠르며 당사의 전문가에 의해 기술지원됩니다. 터치스크린 HMI는 모든 중요한 조건을 처리하는 레시피 기반의 멀티스테이지 공정 제어를 제공합니다.

 

Key features

  • 초소형의 벤치탑 CVD 시스템
  • 재현성이 좋은 고품질 합성
  • 정밀한 조건 제어
  • 1100 °C의 최대 온도
  • 30분 이내의 처리 시간 
  • 20 × 40 mm2의 최대 기판 크기
  • 전자동 (fully automatic)
  • 사용자 친화적인 터치스크린 HMI 작동
  • 여러개의 레시피 정의 및 저장
  • 데이터 로깅을 위한 PC 연결
  • 쉬운 서비스를 위한 장비
  • 포괄적인 안전 기능
  • 클린룸 호환
  • 입증된 성능

 

nanoCVD-WPG

nanoCVD-WPG

고품질의 그래핀을 빠르게 합성하기 위한 컴팩트한 강화플라즈마 3”, 4” 웨이퍼 스케일의 CVD(Chemical Vapour Deposition). Read more
A compact, plasma-enhanced, wafer-scale CVD (Chemical Vapour Deposition) system for rapid synthesis of high-quality graphene. 

Growth schemes
Compatible with numerous CVD methods:

  • Substrates: Cu, Ni, etc. (films or foils)
  • Feedstocks: CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.
  • Process gases: H2, Ar, N2, etc.

 

 

nanoCVD-8N

nanoCVD-8N

고성능의 탄소나노튜브 합성을 위한 컴팩트한 턴키 방식의 스케일 업 가능한 CVD 시스템 . Read more
A compact, turn-key and scalable CVD system for high-throughput carbon nanotube synthesis – with proven performance. 

Depending on recipes and substrate/catalyst combinations, nanoCVD-8N units can create different CNT morphologies:

  • Random: Multiply interconnected SWNTs
  • Aligned: Parallel SWNTs
  • ‘Forests’: Vertically stacked SWNTs

CNTS can be formed using a variety of substrates, such as SiO2/Si, Si3N4 and quartz, while typical catalysts include nanoparticles of Fe, Co and Ni.

 

nanoCVD-8G

nanoCVD-8G

고품질의 그래핀의 신속한 합성을 위한 주문형 벤치탑 그래핀 CVD 시스템. 오염 및 운영 비용을 줄이고 조건 제어의  강화를 완전 자동화된 콜드 월(cold-wall) 기술 채용. Read more
A benchtop graphene CVD system for rapid, on-demand synthesis of high-quality graphene. Fully automated cold-wall technology for reduced contamination and running costs, and enhanced conditions control. 

 

 

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