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주식회사 연진에스텍

Overview of Moorfield deposition system

Home > Products > 진공증착장비 (Vacuum Deposition System) > PVD, CVD, Evaporation, Etching System

Moorfield Nanotechnology

UK Laboratory Equipment Specialists in Magnetron Sputtering, Evaporation (Thermal Evaporation, E-Beam Evaporation, Low Temperature Evaporation), PVD (Physical Vapour Deposition), CVD (Chemical Vapour Deposition), Etching, Thermal processing, Electron microscopy coating, and ​​​​​​Glovebox Integrated Systems. 

Moorfield Nanotechnology 진공증착시스템은 반도체 및 태양광전지(photovoltaics), 그래핀, 2D 재료를 포함한 학술, 연구개발에 사용됩니다. Moorfield의 세계적 수준의 연구장비는 고객의 요구 사항에 맞도록 제작되었습니다. 또한 기존 장비를 서비스, 수리하고 맞춤형 프로젝트와 관련된 컨설팅을 제공할 수 있습니다.

"Our systems are used for academic and industrial research, including semiconductors, photovoltaics, graphene and 2D materials. Moorfield’s world-class scientific laboratory equipment is built to match your research needs. We can also service and repair existing tools, and provide advice relating to a custom project."

 

MiniLab

Moorfield사의 MiniLab 제품군은 고급 R&D에 사용되며, 파일럿 스케일의 탄력적이고 모듈형 PVD system입니다.
MiniLab 125
  • 컴팩트한 floor-standing 툴
  • 고온증착 (Thermal evaporation)
  • 열증착 (Low-temperature evaporation)
  • 마그네트론 스퍼터링 (Magnetron sputtering)
  • 전자빔증착 (Electron-beam evaporation)
  • Base pressure <5 × 10-7 mbar 
  • 시스템 제어를 위한 HMI 터치스크린 및 PC 
  • 인터락 (inter-locks) 및 포괄적 안정성 제공
  • 클린룸 호환성 (Cleanroom campatible) 
  • 금속 및 유전체, 유기물 증착

MiniLab 026

MiniLab 060

MiniLab 080

MiniLab 090

MiniLab 125

  MiniLab 026 시스템은 접근이 용이한 ‘clam-shell’ chamber를 갖춘 컴팩트한  floor standing vacuum evaporator입니다. Evaporation과 sputtering에 의한 금속과 유전체, 유기물 증착에 적합합니다.

  MiniLab 제품군에서 가장 인기 있는 플랫폼인 MiniLab 060 시스템에는 multiple-source magnetron sputtering 뿐만 아니라 thermal, e-beam evaporation에도 이상적인 전면 로딩 박스형 챔버를 갖추고 있습니다.

  MiniLab 080 시스템은 최적의 균일한 분포도(uniformity)를 위해 긴 working distance가 필요한 thermal evaporation, low temperature evaporation (LTE), e-beam evaporation 공법에 이상적인 깊이 있는 챔버를 제공합니다.

  MiniLab 090 시스템은 글러브박스와 호환됩니다. 깊이 있는 챔버는 고성능 evaporation에 이상적이며, 동시에 마그네트론 스퍼터링도 가능합니다.

   MiniLab 125는 모듈형 파일럿 스케일 수준입니다. 대형 챔버를 갖추고 있어 넓은 영역을 코팅합니다. 다양한 로드 락 옵션을 이용하면, 처리량이 증가합니다. 동시에 본 시스템은 특정 응용 프로그램에 맞게 완벽한 커스터마이즈가 가능합니다. 
  • Thermal evaporation
  • LTE
  • Magnetron sputtering
  • Thermal evaporation
  • Low-temperature thermal evaporation (LTE)
  • E-beam evaporation
  • Magnetron sputtering

‘Clam-shell’ or bell-jar chambers

Front-loading box-type vacuum chamber

Front-loading D-shaped vacuum chamber

Front sliding door for in-glovebox loading

Turbomolecular pumping systems

Turbomolecular and cryo pumping systems

Substarte diameter Up to 6” 

Substarte diameter Up to 11” 

Equipped for easy servicing

Equipped for easy servicing

Equipped for easy servicing

Equipped for easy servicing, Rear door for service access

Equipped for easy servicing, Rear door for service access

Glovebox-compatible

Load-locks available

Load-locks available

Glovebox-compatible
 

Options

Shutters; Source and substrate, pneumatic or motorised. Manual or automatic via front panels, touchscreen HMI or PC. Quartz crystal sensor heads for rate/thickness monitoring or feedback-loop control. Gas/Pressure; Manual or automatic control via MFCs and throttle valves.
Pumping; Rotary or scroll backing pumps.
Pumping; ; Turbomolecular or cryogenic high-vacuum pumps, rotary or scroll backing pumps.
Stages; Rotation, heating, and Z-shift.
Stages; Rotation, heating, cooling, Z-shift, bias and planetary.
 
Single- and multiple-sample.

 

nanoPVD

Moorfield사의 nanoPVD 제품군은 벤치탑의 컴팩트한 고성능, 고진공 PVD 시스템으로, 다양한 R&D 박막 증착 애플리케이션을 위한 우수하고 효율적인 성능을 갖춘 장비입니다. nanoPVD 시스템의 디자인은 Moorfield 사의 주력인 MiniLab 제품군에서 사용되는 것과 같은 "입증된" R&D 박막 시스템 기술에서 유도되었습니다.  선도적인 학계와 공동으로 개발한 nanoPVD tool은 사용상 편의성에 최적화되어 있으며, 비용 대비 뛰어난 가성비를 제공하며 품질과 운영 공간, 예산을 고려해야 하는 상황에 이상적인 툴입다. nanoPVD 제품군는 마그네트론 스퍼터링과 열 증착 증착 기술을 모두 다루는 모델로 구성됩니다. 
Overview of PVD
  • Base pressure <5 × 10-7 mbar
  • HMI 터치스크린을 통한 완전 자동 운영
  • Multiple process recipe의 정의 및 저장
  • 데이터 로깅을 위한 PC connection
  • Heating, Z-shift and rotation stages (optional)
  • 손쉬운 서비스를 위한 장치
  • 포괄적 안전성 제공
  • 클린룸 호환성 (cleanroom compatible)
  • 입증된 성능 
  • 리드타임 단축 
  • Outstanding value for money

nanoPVD-S10A

nanoPVD-S10A-WA

nanoPVD-T15A

nanoPVD-S10A는 금속 및 절연 재료용 벤치탑의 RF, DC 마그네트론 스퍼터링 시스템입니다. 전자현미경 코터처럼 컴팩트하지만 연구 수준의 결과를 내는 고급 하드웨어를 갖추고 있습니다.

nanoPVD-S10A-WA는 nanoPVD-S10A에 더불어 최대 8인치 직경의 기판을 균일하게 코팅할 수 있도록 하는 구성요소를 갖습니다. RF, DC 마그네트론 스퍼터링을 사용하므로 금속과 절연 재료의 증착에 사용됩니다.

nanoPVD-T15A는 최대 4인치 직경의 금속과 유기물의 증착에 사용되는 고성능 시스템입니다. 우수하고 효율적인 성능으로 OLED와 OPV, OFET 연구에 이상적입니다.

Physical vapour deposition

Thermal evaporation

 

Application-specific configuration 

 

Water-cooled magnetron sputtering sources for industry-standard 2″ targets

 

MFC-controlled process gases

 

DC and/or RF power supplies

 

Up to 4” diameter substrates

Uniform coating for substrates up to 8” diameter

Up to 4″ diameter

Options

Dry backing pump. Fast chamber vent. Automatic high-resolution pressure control. Substrate rotation, Z-shift and shutters. Quartz crystal sensor head
Additional process gases
 
500 °C substrate heating stage
 
500 °C substrate heating stage
Up to 3 magnetron sputtering sources
Up to 2 magnetron sputtering sources
Up to 4 LTE sources for organics
Up to 2 evaporation sources for metals
RF and/or DC power supplies
 
SputterSwitch power supply/source switching technology
 
Co-deposition
 
 

 

nanoCVD

Moorfield의 nanoCVD 제품군은 고품질의 그래핀과 탄소 나노튜브 합성을 위한 벤치탑 CVD 시스템으로 주문형 샘플 생산을 위한 빠른 구동이 가능합니다. 
Overview of CVD
  • 초소형의 벤치탑 CVD system
  • 재현성 있는 고품질의 합성 
  • 정밀한 조건 제어
  • 최대온도 1100 °C 
  • 30 분 이내의 처리시간 (process time)
  • 최대 기재 사이즈: 20 × 40 mm2 
  • 완전자동 (fully-automatic)
  • 사용자 편의의 HMI 터치스크린
  • Mmultiple growth recipe의 정의 및 저장
  • 데이터 로깅을 위한 PC connection
  • 손 쉬운 서비스를 위한 장치
  • 포괄적 안전성 제공
  • 클린룸 호환성 (cleanroom compatible)

nanoCVD-8G

nanoCVD-8N

nanoCVD-WPG

nanoCVD-8G는 고품질의 그래핀을 빠르게 합성하는 데 사용되는 벤치탑 그래핀 on-demand CVD 시스템입니다. 오염과 운영비를 줄이고 조건 제어를 강화한 완전 자동화된 콜드 월(cold-wall) 기술을 채용하였습니다.

nanoCVD-8N은 고성능 탄소 나노튜브 합성(high-throughput carbon nanotube synthesis)을 위한 소형 턴키 방식의 scale-up 가능한 입증된 CVD 시스템입니다.

nanoCVD-WPG는 고품질의 그래핀과 태양전지 전극, 터치스크린 디스플레이를 빠르게 합성하는 데 사용되는 컴팩트한 강화플라즈마 웨이퍼 스케일의 CVD(Chemical Vapour Deposition) 시스템입니다.
Chemical vapour deposition (CVD)
Applications: Graphene & 2D materials, Electrodes for photovoltaics, Touchscreen displays, High-performance electronics Biological, chemical and mechanical sensors, Electrical energy storage
Ultra-compact, benchtop, CVD system
Ultra-compact, benchtop, atmospheric-pressure CVD system
Compact design
Reproducible synthesis of high-quality graphene
Reproducible synthesis of high-quality carbon nanotubes
 
 
Optimised for single-walled carbon nanotubes
Wafer-scale synthesis: 3” or 4”
   
   
Implements proven nanoCVD technology 
150 W/13.56 MHz RF power supply
 
 
Multiple in-chamber plasma electrodes
 
 
Cold-walled technology
 
CNT morphologies:
  • Random: Multiply interconnected SWNTs
  • Aligned: Parallel SWNTs
  • ‘Forests’: Vertically stacked SWNTs
Growth schemes
Compatible with numerous CVD methods:
  • Substrates: Cu, Ni, etc. (films or foils)
  • Feedstocks: CH4, C2H4, solids (PMMA), etc.
  • Process gases: H2, Ar, N2, etc.
 
MFC-controlled process gases (argon, hydrogen and methane)
 
Optional rotary or scroll (dry) backing pump.
 

 

nanoEM

Electron microscopy coating

nanoEM 시스템은 완벽하게 연구 개발 기능을 full로 갖춘 최초의 전자 현미경 코팅 장비입니다. TEM/SEM 샘플의 기본적인 처리가 간편하고 코팅 속도가 빠릅니다. 또한 high-end 구성 요소와 기존 타겟과 호환성이 좋아 무한한 가능성을 갖는 기기입니다. Read more
The nanoEM system is the first electron microscopy coating tool with a full, research-grade feature set. Ease-of-use and coating speed are built in for routine preparation of TEM/SEM samples (e.g., with sputtering of gold and/or carbon), but with high-end components and compatibility with conventional targets, the possibilities are endless. 

 

Overview of Soft-etching System 

Soft-etching System

소프트 에칭 기술은 기재와 디바이스 선정에 필요한 미세한 제어능력을 제공함으로써 세계 최고의 2D 재료 연구를 돕는 Moorfield의 독특한 기술입니다. "Soft-etching technology from Moorfield is unique in providing the fine control needed for substrate and device preparation in world-leading 2D materials research."

  • MiniLab - 고급 연구개발 및 파일럿 생산을 위한 탄력적인 모듈형 PVD 시스템.
  • nanoETCH - nanoETCH는 Moorfield의 독특한 소프트 에칭 기술을 구현하는 편리한 벤치탑 패키지로써, 그래핀과 2D 재료 연구를 위한 중요한 미세 에칭 성능을 제공합니다.
 
Vacuum Annealing System, ANNEAL

Vacuum annealing system

Moorfield Nanotechnology는 낮은 압력과 불활성 및 반응성 분위기에서 고온의 시료 처리를 위한 완벽한 열처리 시스템과 맞춤형 컴포넌트를 생산합니다. Moorfield의 진공 어닐링 시스템은 특정 분위기에서 최대 1000°C까지 기재의 온도를 정밀하게 가열, 제어하는 완벽한 시스템으로써, 용도에 따라 다양한 히팅 기술이 사용되고, 히팅 스테이지 및 파워 서플라이를 포함한 독립형 컴포넌트가 제공됩니다.  

  • ANNEAL - Moorfield의 vacuum annealing system은 특정 분위기에서 2D 재료와 웨이퍼의 열처리에 최적화되었습니다.  최대 1000 °C의 고온진공 어닐링, 정밀한 gas / pressure control - all in a benchtop package.

Quartz lamp, Carbon-carbon composite (CCC), SiC-coated graphite, Heating control resolution ±1 °C.

 

Glovebox integrated system

Glovebox integrated system

Physical vapour deposition (PVD)과 etching, annealing processes를 위한 glovebox-compatible MiniLab system
  • MiniLab 090 : 대기 노출에 민감한 어플리케이션을 위한 글로브박스. 깊이 있는 챔버는 고성능 증발에 이상적이지만, 마그네트론 스퍼터링에도 사용할 수 있습니다. "Glovebox-compatible for atmosphere-sensitive applications. Tall chambers are ideal for high-performance evaporation, but magnetron sputtering is also available."
  • MiniLab 026 :  접근이 쉬운 ‘clam-shell’ chamber가 쓰이는 컴팩트한 floor standing 진공 증착장비. 증착 및 스퍼터링 기술을 통한 금속, 유전체 및 유기물 증착에 적합합니다. "Compact floor standing vacuum evaporators with easy-access ‘clam-shell’ chambers. Suitable for metal, dielectric and organics deposition via evaporation and sputtering techniques."
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