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내용
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Strontium Oxide Sputtering Target, SrO
Strontium Oxide Sputtering Target Description The strontium oxide sputtering target is a colorless
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75
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YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Fluorine Doped Tin Oxide FTO Sputtering Target
Fluorine Doped Tin Oxide FTO Sputtering Target Description Tin, also called stannum, is a chemical
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0
89
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YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Barium Cerium Yttrium Zirconate Sputtering Target, BZCY
Barium Cerium Yttrium Zirconate Sputtering Target Description Barium cerium yttrium zirconate sputt
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0
95
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Barium Ferrite Sputtering Target, BaFe12O19
Barium Ferrite Sputtering Target Description Barium ferrite sputtering target is composed of barium
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81
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Bismuth Calcium Ferrite Sputtering Target, Bi0.9Ca0.1FeO3
Bismuth Calcium Ferrite Sputtering Target Description Bismuth calcium ferrite sputtering target is
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91
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YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Bismuth Dysprosium Iron Gallate Sputtering Target, Bi2DyFe4GaO12
Bismuth Dysprosium Iron Gallate Sputtering Target Description Bismuth dysprosium iron gallate is co
댓글 0
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86
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Bismuth Lanthanum Ferrite Sputtering Target, Bi(1-x)LaxFeO3
Bismuth Lanthanum Ferrite Sputtering Target Description Bismuth lanthanum ferrite is composed of bi
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107
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YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-24
증착재료 도가니(박막증착 도가니 (Evaporation Crucibles))
Tungsten Crucible (High Purity W Crucible)
Catalog No. WM0120 Size Customized Material Pure W Purity W≥99.95% Density 18.2-19.0 g/cc Surface F
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151
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-24
수정 2025-10-31
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Bismuth Lutetium Iron Gallate Sputtering Target, Bi1.5Lu1.5Fe4GaO12
Bismuth Lutetium Iron Gallate Sputtering Target Description Bismuth lutetium iron gallate is a sput
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87
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-23
수정 2025-10-23
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Bismuth Manganate Sputtering Target, Bi2.4MnO3
Bismuth Manganate Sputtering Target Description Bismuth manganate sputtering target is composed of
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93
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YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-23
수정 2025-10-23
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Cerium Bismuth Ferrite Sputtering Target, Ce2.2Bi0.8Fe5O12
Cerium Bismuth Ferrite Sputtering Target Description Cerium bismuth ferrite sputtering target is co
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79
첨부파일
YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-23
수정 2025-10-23
스퍼터링 타겟(스퍼터링 타겟)
Cerium Yttrium Ferrite Sputtering Target, Ce2.5Y0.5Fe5O12
Cerium Yttrium Ferrite Sputtering Target Description Cerium yttrium ferrite sputtering target is co
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YEONJIN S-Tech Corporation
2025-10-23
수정 2025-10-23
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