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Overview of AJA Vacuum Deposition System

AJA는 마그네트론 스퍼터링(magnetron sputtering)과 e-beam evaporation, thermal evaporation 및 이온 밀링 (ion milling)과 같은 박막 증착 장비 제조업체입니다. 1989년 미국 매사추세츠주 Scituate에서 William Hale (MBA, BS Physics)에 의해 설립되어, 혁신적인 PVD (Physical Vapor Deposition) 장비 공급업체로 발돋움하였습니다. 많은 장비와 마그네트론 스퍼터 소스가 전 세계적으로 공급됨에 따라 AJA International, Inc.는 혁신적인  솔디자인 루션을 계속해서 창출해 나아가고 있습니다. AJA는 진정으로 박막 기술의 최첨단을 달리고 있습니다.  "THE CUTTING EDGE IN THIN FILM TECHNOLOGY"

900개 이상의 시스템과 7,500개 이상의 마그네트론이 전 세계적으로 공급된 AJA International, Inc.는 혁신적인 설계 솔루션을 지속적으로 추구합니다. 가능하면 모든 AJA 시스템은 AJA 엔지니어의 설치와 교육이 제공됩니다.

Company Headquarters and System Acceptance Site - Scituate, MA
Located one mile from the beautiful Atlantic coast.

 

PRODUCT OVERVIEW

AJA International, Inc.는 PVD와 이온 밀링을 위한 매우 성공적인 R&D, 파일럿 생산 규모의 장비와 부속품을 개발했습니다.

AJA Sputtering System

Sputtering System

AJA는 컴팩트한 스퍼터 (ATC Orion 시리즈)에서 복합적인 (ATC Flasgship 시리즈), 뿐만 아니라 소형 batch coater (ATC-B 시리즈)에 이르는 research scale의 PVD 마그네트론 스퍼터링 시스템을 공급하고 있습니다. 본 스퍼터링 시스템은 con-focal, 정상입사, off-axis, 경사각 또는 "target to substrate" 방향의 조합으로 구성될 수 있습니다. 기판 홀더 기능에는 복사 가열 (1000 °C), azimuthal rotation, RF/DC 바이어싱, z-모션, 냉각(H2O 또는 LN2), 틸팅 또는 유성 모션이 포함됩니다. 

 

AJA Ion Milling System

Ion Milling System

AJA International ATC-IM 이온 밀링 시스템은 고객 요구 사항에 따라 다양한 구성으로 제작되는 다목적 툴입니다. 챔버는 실린더형 또는 박스 스타일 및 HV, UHV로 제공됩니다. SIMS endpoint detection은 AJA의 고유한 SIMS-IS isolation 시스템과 함께, 옵션으로 main chamber가 vent될 때마다 SIMS head/detector를 진공 상태로 유지할 수 있습니다. 본 시스템에는 컴퓨터 컨트롤, 로드락, auto-loading, multi-substrate cassette & mask 교체 기능이 포함될 수 있습니다.

  • Ion milling systems - 기판 냉각 및 SIMS end point detection 기능이 있는 다양한 크기의 physical etching tool. 최대 직경 22 cm의 RF 이온 소스 및 DC 이온 소스. 대면적의 소스를 위한 편리한 슬라이드 레일 액세스. "Physical etching tools in various sizes with substrate cooling and SIMS end point detection. RF and DC Ion sources available up to 22 cm diameter.  Convenient slide rail access for larger sources"

 

AJA Evaporation System

Evaporation System

AJA International ATC-E (E-Beam Evaporation)ATC-T (Thermal Evaporation) 시스템은 R&D 스케일의 박막 증착을 위해 설계된 고도로 발전된 HV, UHV 코팅 툴입니다. 이 시스템은 로드-락, 이온 밀링 / 이온 보조 소스, 가열 / 냉각 기판 홀더, QCM 증착 컨트롤 / 컴퓨터 컨트롤 및 AJA의 고유한 수냉식 300 Amp 열 증착 소스를 특징으로 합니다.

 

AJA Multi-Technique System

Multi-Technique System

AJA International ATC-M 시리즈 Multi-Technique System은 싱글 챔버 (하이브리드 시스템) 또는 멀티 챔버 (멀티 챔버 시스템)에서 다양한 박막 증착, 이온 밀링 및 분석 평가를 수행하는 다목적 툴입니다. 진공을 깨뜨리지 않고 공정에서 공정으로 기판의 in-situ trasfer를 가능하도록 한 시스템으로써, HV 또는 UHV 구성과 실린더형, 박스형 또는 기계식 챔버 스타일로 구축할 수 있습니다.

  • Multi-Chamber Systems - 연결된 챔버와 챔버에서 스퍼터링과 이온밀링, evaporation, annealing, PLD, load-lock 및 분석평가.
  • Hybrid Systems - 증착과 이온밀링, evaporation, annealing, PLD, 분석평가 기능을 갖는 Load-lock single chamber 시스템. 

 

Sputtering Source 

 

Substrate Holder

  • Substrate Heaters - to 1000°C with rotation, RF bias, Z motion and tilting.
  • Substrate Cooling - LN2 and water cooled versions with rotation, Z motion, tilting and RF biasing.
  • Specialty Substrate Holders - heating/cooling, planetary, batch and transverse magnetic field versions.

 

Sputtering Power Supply

  • RF Generators and Matching Networks - 100, 300, 600, 1000 and 2000 Watt 13.56 MHz RF generators for sputtering and RF biasing.
  • DC Generators - 750 W and 1500 W continuous DC generators with integral 4 way switchboxes.
  • Pulsed DC Generators - 1000, 1500 and 5000 Watt asymmetric bipolar pulsed DC generators.
  • HiPIMS - high power, pulsed DC generators to ionize the sputtered material for acceleration, deceleration and flux orientation.

 

Sputtering Target & Material

AJA International은 거의 모든 고객 요구 사항을 충족하도록 광범위한 스퍼터링 타겟과 증착 재료를 제공합니다. 타겟과 재료는 다양한 재료와 크기 및 순도를 맞춰 공급할 수 있습니다. 타겟 및 증착 재료 리스트

 

WHAT'S NEW AT AJA  

ATC-MC-HY Multi-Chamber Hybrid Deposition Tool

ATC -MC-HY Multi-Chamber Hybrid Deposition Tool은 개별적으로 e-beam과 thermal evaporation, con-focal 공초점 마그네트론 스퍼터링, 360° 틸팅 이온빔 에칭(ion-beam etching), 수냉식 기판 홀더를 특징으로 하는 2개의 하이브리드 프로세스 챔버가 결합된 멀티 챔버 증착장비입니다. 또한 세 번째 챔버는 포스트 어닐링(post anneal), 산소화 (oxygenation )및 애싱 (ashing) 기능을 갖습니다. 모두 단면 분리 (sectional isolation)와 통합 로드락 및 글로브박스 호환성을 갖춘 UHV 마그네틱 전송 튜브(UHV magnetic transfer tube)를 통해 연결됩니다.

ATC -MC-HY Multi-Chamber Hybrid Deposition Tool with UHV Transfer Tube & Glovebox Interface
The ATC-HY Multi-Chamber Hybrid Deposition Tool combines two Hybrid Process Chambers, each featuring e-beam and thermal evaporation, confocal magnetron sputtering, ion beam etching with a 360 degree tilt, and a water-cooled substrate holder.  In addition, a third process chamber features post anneal, oxygenation and ashing capability.  All are connected via a UHV magnetic transfer tube with sectional isolation, integral load-lock and glovebox compatibility. 

 

ATC-3036-R2R Rolling Coating System

The Rolling Coating System is designed to accommodate PET, PEN, Kapton rolls up to 6”W x 700’ L.  Equipped with (4) rectangular magnetron sources optimized for high rate metals, magnetic materials, dielectrics, and precious metals with individual crystal monitors for rate control, and in-situ masking system for web patterning. The advanced web handling system includes bi-directional operation with dual sided glow discharge for roll outgassing, water-cooled rollers to minimize roll temperature, and laser guiding system to prevent the roll from telescoping on the take-up and feed rollers.  

 

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