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Sputtering Systems from AJA International, USA

AJA사는 컴팩트한 모델 (ATC Orion 시리즈)에서부터 복합적인 모델 (ATC 플래그십 시리즈), 그리고 소형 배치 코터 (ATC-B 시리즈)에 이르는 R&D 스케일의 physical vapor deposition을 위한 마그네트론 스퍼터링 시스템 (magnetron sputtering system)을 제공합니다. 이러한 스퍼터링 시스템은 con-focal 또는 normal incidence, off-axis, glancing angle, "target to substrate orientation"의 combination으로 구성할 수 있습니다. 기판 홀더는 복사 가열 (radiant heating, 1000°C), azimuthal rotation, RF/DC 바이어싱, Z- 모션, 냉각 (H2O 또는 LN2), 틸팅 또는 planetary motion의 특징을 갖습니다. 

 

ATC ORION Sereis Sputtering Systems

AJA International사의 ATC Orion Series 스퍼터링 시스템은 인기있는 ATC Flagship Series PVD (Physical Vapor Deposition)의  컴팩트한 버전으로, 제한된 예산으로 최대 성능의 증착 장비를 구축하고자 하는 고객을 위해 설계되었습니다. 본 HV, UHV 시스템은 고도로 발전된 ATC 스퍼터링 장비의 디자인 기능과 공통적인 부품이 사용됩니다. 일반적으로 Standard ATC Orion 모듈의 챔버, 프레임, 클러스터 플랜지 등은 상시 보유 품목으로 납품 리드타임이 단축됩니다. MORE DETAILS

 
Compact Systems 
 
  • 10", 12" and 14" chamber Ø
  • HV and UHV versions
  • 1.5", 2" and 3" sputter sources
  • Substrate holders to 6" Ø
  • Load lock
  • Substrate cassettes 
  • Auto-loading
  • Computer control
  • Custom engineered versions 
  • Much more than a tabletop system
 

 

ATC Flagship Series Sputtering Systems

AJA International사의 ATC Flagship Series 스퍼터링 시스템은 대부분의 요구사항을 충족하도록 다양한 구성으로 구축되는 다목적 PVD 코팅 장비입니다. 본 시스템은 AJA사의 독특한 A300-XP (UHV) 또는 Stiletto Series (HV) 마그네트론 스퍼터링 소스(magnetron sputtering source)를 중심으로 구축되어, 정밀하고 재현있는 공 초점의 직접적인 축외 박막 증착을 가능하게 하는 in-situ source head tilting 기능이 특징입니다. 모든 시스템에는 챔버 상단을 들어 올리는 헤비 듀티 호이스트를 포함하고 있습니다. MORE DETAILS


시스템의 챔버 크기: ATC 1800  (18"  Ø), ATC 2200 (22" Ø), ATC 2600 (26" Ø)

Flagship Systems
 
  • 18" to 34" chamber Ø
  • HV and UHV versions
  • 1" to 8" diameter sputter sources
  • In-situ tilt source option
  • Substrate holders to 8" Ø
  • Load locks
  • Substrate cassettes and masking 
  • Auto-loading
  • Computer control
  • Custom engineered versions 
 

 

ATC-B SERIES BATCH COATING SYSTEMS

AJA International사의 ATC-B Series Batch Coating System은 여러 개의 기판을 소규모로 생산 가능하도록 제작되는 맞춤형 스퍼터링 증착 시스템 (sputtering and evaporation system) 입니다. 특정 요구 사항에 따라 실맅더형 또는 박스형 챔버가 사용됩니다. 처리 시간이 길어지는 경우, 재료가 기판 또는 마그네트론 스퍼터 소스로 떨어지지 않아 단락으로 인한 공정 중단이 없어 수평한 마그네트론 스퍼터링이 일반적으로 가장 많이 쓰입니다. MORE DETAILS

 
Batch Coating Systems
 
  • Cylindrical or box style chambers  
  • Load-lock & cassette options  
  • Circular, triangular or linear sources
  • Integrated hoist or hinged door
  • Single, multi-layer or co-deposition 
  • Configured for your application
 

 

 

MAGNETRON SPUTTERING SOURCES

AJA International사는 1991년 이래, 특수 용도로 특별히 설계된 여러가지 소스를 포함해 100여 가지가 넘는 다양한 유형의 마그네트론 스퍼터링 소스 (magnetron sputtering source)를 개발했습니다. AJA사는 고유한 직사각형, 원형, 터렛 (turret) 및 실린더 원통형 버전을 기판의 형상과 챔버 구성, target 물질 제한,  필요로 하는 필름 사양에 따라 R&D HV 및 UHV Magnetron Sputtering Source와 생산용 HV Magnetron Sputtering Source를 제공합니다. 더욱 자세한 내용을 참조하거나 요구 사항을 저희 (주)연진에스텍에 문의해주십시요. MORE DETAILS

R&D MAGNETRON SPUTTERING SOURCES (HV AND UHV)
PRODUCTION MAGNETRON SPUTTERING SOURCES (HV)

 

 

 

Substrate Holders

  • Heating, Cooling, Specialy Substrate Holders

 

  • Fabrication Options, Types of Materials, Materials List Available 

 

Sputtering Power Supplies

  • RF GENERATORS & MATCHING NETWORKS FOR MAGNETRON SPUTTERING
  • DC GENERATORS FOR MAGNETRON SPUTTERING
  • PULSED DC GENERATORS FOR MAGNETRON SPUTTERING
  • HIPIMS GENERATORS FOR IONIZED MAGNETRON SPUTTERING